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...離子蝕刻設備（PP2001ERIE）、高密度電漿化學氣相沉積設備（hdpCVD）、多腔式連續製程設備、射頻產生器（RFPowerGenerator）及匹配網路（MatchNetwork）等。

... 離子蝕刻設備（PP2001E RIE）、高密度電漿化學氣相沉積設備（hdp CVD）、多腔式連續製程設備、射頻產生器（RF Power Generator）及匹配網路（Match Network）等。

引發電漿的電源供應器一般分為直流(DC, Direct Current)電源、射頻(RF, ... 電漿產生的原理與普遍使用在半導體業的一些反應器，後半段介紹的高密度電漿. Read More

由李安平著作 — 其中由柳克強教授介紹射頻電感偶合放電；寇崇善教 ... 於電漿腔中感應產生一與RF 電流反向之電場(E)，此 ... Hollow Electrode Plasma Generators with. Read More

普遍的電漿源則是射頻（Radio Frequency, RF）電漿源。電漿的產生如圖2.1所示，當反應室通入氣體(以經濟因素考量. 下，大多採用氬氣)，並以交流電壓加於電極時，在較 ... Read More

由彭元宗著作 · 2005 — PECVD 製程原理, 電漿原理、CVD Clean endpoint 介紹、電漿中RF Vdc Vpp 代 ... 430KHZ 之RF 能量，RF 能量由RF Generator 產生，經由導線傳輸至RF. Read More

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射頻信號產生器(RF Generator)主要在測試中充當穩定的本振信號，或產生各類調制信號，雙音信號等用於信號激勵，接收靈敏度測試等應用場合。 Read More

射頻電源供應器RF Generator. ceres. 美國CERES 公司是專業電漿/ 濺鍍製程電源供應器製造商，服務的對象多以半導體、航太、再生能源等領域的客戶為主。 Read More

rf generator介紹,26. 帶電粒子的移動. • RF電場快速變換，電子能快速地加速，而離. 子反應很慢. • 離子截面積較大， ... 電漿原理介紹.... 荷端Plasma Reactor的阻抗 ... Read More

下圖我們要看在rf-driven 電容式的低壓放電，前面曾談論過的CF ... Langmuir probe technique: 1923年首先由Langmuir 介紹，目前已被廣泛的用來量測. Read More

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