電漿源原理與應用之介紹 | 合法醫療器材資訊網

在日常生活中使用的日光燈就是電漿的應用，隨著科技日益進步電漿也廣泛的應用在半導體製造中，像薄膜沉積製程中的濺鍍、化學氣相沉積；蝕刻製程的乾式蝕刻與佈植技術 ... Read More

電漿是由中性原子或分子、電子(-）和正電離. 子所構成. 1. 游離率主要決定於電漿中的電子能量. 2. 在大部分的電漿製程反應室中，游離率. 都低於0.001%. Read More

需要外界的能量- 射頻（RF）電漿源是半導. 體製程中最普遍的電漿源. ▫ 欲產生射頻電漿 ... 電漿蝕刻. ▫ CF. 4. 氣體在電漿中分解，產生氟自由基以進. 行氧蝕刻製程. Read More

由 張朝雯 著作 · 2003 · 被引用 1 次 — 電漿蝕刻製程參數中一般包括了射頻(Radio-frequency，RF)功率、操. 作壓力、氣體種類、流量、蝕刻溫度及腔體的設計等因素。而這些因素綜合的結. 果將直接或間接影響蝕刻的 ... Read More

電漿蝕刻是將電磁能量[通常為射頻(RF)] 運用在含有化學反應成分(如氟或氯) 的氣體中進行。電漿會釋放帶正電的離子並撞擊晶圓以移除(蝕刻) 材料，並和活性自由基產生化學 ... Read More

進行非電漿製程需極高溫度才能進行的反應。當反應性氣體通入電漿中成為電漿. 態，變成化學上非常活潑的激發分子、原子、離子和原子團等，促進化學反應在. Read More

等分解成離子,電子,自由基. 等高反應性的粒子,這些高反應性的物質,在室溫即可與待清潔物表面油. 污反應,並形成穩定的氣體分子。電漿清潔所需的能源少,產生的污染物. Read More

宇宙間大多數物質處於電漿態，亦即熱平衡狀態，然而在低壓放電製程中，輕重不同 ... 電漿粒子和其他氣體分子一樣都是連續運動的，包括其間的碰撞有彈性及非彈性的兩. Read More

由 李安平 著作 — 此外在半導體製程應. 用上，在晶圓座通常亦施加另一射頻電源，可獨立控. 制離子能量與電流，對於半導體製程精確度與重現性. 之掌握極為重要。 在ICP 之射頻電場中，電子 ... Read More

1.以電漿熔融技術處理都市垃圾焚化爐飛灰於國內是屬首創，尤其是針. 對本國都市垃圾焚化爐灰渣及醫療廢棄物發展特屬處理程序，經核研. 所測試成熟後將推廣於國內各業界，故 ... Read More