Plasma | 合法醫療器材資訊網

需要外界的能量-射頻（RF）電漿源是半導.體製程中最普遍的電漿源.▫欲產生射頻電漿...電漿蝕刻.▫CF.4.氣體在電漿中分解，產生氟自由基以進.行氧蝕刻製程.

�����A��㶹~3��E�ˆq�j�i02fvf�e&�bCB��Hr[o*��Tt��E�m��R��+��L����������9��Q�h��r=̣�!H��䨜R�4����k�7�z������Q�f�m��r����o�g���*c��h*��$PA�N`��>��q������Im�H�偅F̕�B��Y~+(�j�$o��tR��&x�tDP��)�g��|����J�:k=Ah�2I~V�#� )Z�"��!�����PJ��)���f�H |8@�].� ����.}�W���F�FsK����Lpj�v.�L��r|��c� �A���DX8�#�EP��"(j������x�)L�Q?�8�/�L[�d J��)PQ�x�� �gF�[ry4P�� ���h G����|����g�-����rwoo�:t����?�s5e��ۡ��/P���64:|�������Kl�m�������#D���ž�n�D�Z�c1iTK+ ��t��Yu����� }-K�OwM(�/ΝVPn�� �mpbש�M;M�~�&�M���ԍ� �/C7�,#�C%�[���3��תḬ=�_]�z��߂����lZ��@l}��7 �w����1@ m��۝�����+{���T�XY�����NNfd�uL���PJ�A)~s ��pj�)������צ��b�t��Al��K�ŧ�O��e��o3s�� t&G���(4A�AYb4F,�����`�"�؊��Y,Y��F[Md�x �?�J�q,ET�W�I4��v>=]�g�Z�����+��unX���i�t���v�-i�5L�Kb�n5%��ڶ�40��R8����+�5_;��7뼺�D"i1/x�m�����V�������".�#Ռ��JWCZ1Y��Q}i��·���ߪ`�y)C�/����I�A��F��&:�(����h�dˊ�Մ� �/��c-�� "��EOkW�Q�3��Y)"s�9�`��94}��̧�Y���̋ A*�3��C%S�@��HM�b X�3�T힟�Uꔟ�]��q��Y���...