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第二章基本原理 | 合法醫療器材資訊網

第二章基本原理

以下介紹磁控濺鍍的原理，以及本實驗所採用的「非平衡磁控濺鍍系.統」。2-1-1濺射原理及薄膜沉積...2-1為直流-雙極式(DC-diode)輝光放電示意圖。

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轉載:ICP工藝的基本原理是什麼@ Chinganchen的部落格 | 合法醫療器材資訊網
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