電漿反應器與原理 | 合法醫療器材資訊網
1.電源供應器.引發電漿的電源供應器一般分為直流(DC,DirectCurrent)電源、射頻(RF,.RadioFrequency)電源及微波(MW,Microwave)電源，一般RF的頻率13.56MHz，.MW在 ...
1.電源供應器. 引發電漿的電源供應器一般分為直流(DC, Direct Current)電源、射頻(RF,. Radio Frequency)電源及微波(MW, Microwave)電源，一般RF 的頻率13.56MHz，. MW 在 ...
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轉載:ICP工藝的基本原理是什麼@ Chinganchen的部落格 | 合法醫療器材資訊網
電漿反應器與原理 | 合法醫療器材資訊網
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5、干货！掌握这两个电压（Vdc&Vpp），就理解了DRY ETCH ... | 合法醫療器材資訊網
2020年7月5日 — Vdc是一种直流偏压（DC），也称为自我偏压（self bias voltage），是DRY ETCH原理上非常重要的一个参数，下面通过平行板反应离子蚀刻机台进行说明。 Read More
國立交通大學機械工程研究所碩士論文 | 合法醫療器材資訊網
由 廖木生 著作 · 2004 · 被引用 1 次 — includes source power、bias power、chamber pressure、gas flow etc. Based ... 蝕刻原理及電容耦合式電漿源(capacitive coupled plasma)與變壓. Read More
第一章緒論 | 合法醫療器材資訊網
由 彭元宗 著作 · 2005 — PECVD 製程原理, 電漿原理、CVD Clean endpoint 介紹、電漿中RF Vdc Vpp 代 ... DC 電漿的應用範圍受限於電極的材料，如果電極的材質是非導體時，電極. Read More
何謂Self Bias | 合法醫療器材資訊網
所謂Self Bias是指在RF印加部發生之DC成分電壓。•為達成非等向性蝕刻，必須使粒子的能量具方向性。此非等向性的蝕刻由電極上方的離子界面層電場得來。 Read More
電漿源原理與應用之介紹 | 合法醫療器材資訊網
由 李安平 著作 — 熱電漿火炬大致可分為電感偶合電漿火炬. (Inductively Coupled Plasma Torch ，簡稱為ICP. Torch)、交流電漿火炬(AC Plasma Torch)及直流電漿火. 炬(DC Plasma Torch)等 ... Read More
連續生產型超高頻電漿增強式鍍膜設備設計及其性能 ... | 合法醫療器材資訊網
對於PECVD 原理及形式進行簡介，及對應於In- line PECVD 設備的設計方式及其應用進行 ... DC Bias. Grounded. Breakdown V oltage. Paschen curves for widely-used. Read More
第二章基本原理 | 合法醫療器材資訊網
以下介紹磁控濺鍍的原理，以及本實驗所採用的「非平衡磁控濺鍍系. 統」。 2-1-1 濺射原理及薄膜沉積 ... 2-1 為直流-雙極式(DC-diode)輝光放電示意圖。 Read More
Introduction to plasma theory and demonstration 電漿基礎理論 ... | 合法醫療器材資訊網
2018年8月6日 — 光電所電漿子光學原理與應用. 光電所. 生醫光譜學原理. 光電所. 生醫組織光學. 光電所. 光電數值模擬 ... develop a DC bias which leads to a. Read More
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【無線電頻率電刀】許可證字號:衛署醫器輸字第009572號
器材品名:無線電頻率電刀許可證字號:衛署醫器輸字第009572號註銷狀態:已註銷註銷日期:2012/11/16註銷理由:許可證已逾有效期...
【“紐生”無線電波切口電極】許可證字號:衛署醫器輸字第022859號
器材品名:“紐生”無線電波切口電極許可證字號:衛署醫器輸字第022859號註銷狀態:註銷日期:註銷理由:有效日期:2021/09/27發證日...