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一種測試元結構,包含有一半導體基底,其上具有一晶片電路區域以及一非晶片...疊對精度(overlayaccuracy)監測的測試元(testelementgroup,簡稱TEG)結構。
可進行在線疊對精度監測的測試元結構本發明係有關於半導體技術領域,特別是有關於一種可透過電子束檢視設備(e-beam inspection tool)進行在線(in-line)疊對精度(overlay accuracy)監測的測試元(test element group,簡稱TEG)結構。
半導體製程技術的快速發展,已讓半導體元件可以做到奈米等級,線路也非常的微細,線路與元件之間可能非常接近,這表示半導體製造過程需要越來越高的對準(alignment)及疊對精度(overlay accuracy),以提升製程良率(production yield)。
在晶圓上通常會在切割道設置測試鍵(test key)或測試元(TEG)等參數測試結構,主要是用來檢查製程過程中是否有產生結構缺陷(physical defect),例如,位元線(bitline)與鄰近位元線接觸插塞(bitline contact)短路,並且與後段功能性測試做比較,來反應前段的製程,進而控制整個製造流程,來達到增進良率訴求。
然而,現行的晶圓檢視方法,例如,曝光對準/疊對檢查、AEI上視(After-Etch-Inspection top view)檢視或掃瞄式電子顯微鏡(Scanning Electron Microscope,簡稱SEM)截面檢視,均不易達到在線量測,故難以判斷造成缺陷的根本原因(root cause)。
本發明於是提供一種改良的測試元(TEG)結構,可透過電子束檢視設備進行在線(in-line)疊對精度(overlay accuracy)量測,特別針對位元線與 位元線接觸插塞的疊對精度,並進行快速的反饋,並判斷出造成缺陷的根本原因。
根據本發明實施例,提供一種測試元結構,包含有一半導體基底,其上具有一晶片電路區域以及一非晶片電路區域;一接地面,設於該非晶片電路區域內;至少一接觸插塞,設於該接地面上,並耦接至該接地面;以及至少一對測試線,設於該接觸插塞上,使該接觸插塞位於該對測試線之間。所述非晶片電路區域可以是晶片內任一...
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