X光散射技術 | 合法醫療器材資訊網

X光繞射技術[編輯]...X光繞射（X-raydiffraction）技術可以用於研究分子的構象或形態。X光繞射技術是基於X光在穿過長程有序物質所發生的彈性散射。「繞射動力學 ...

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X光散射技術或X射線繞射技術（英語：X-ray scattering techniques）是一系列常用的非破壞性分析技術，可用於揭示物質的晶體結構、化學組成以及物理性質。這些技術都是以觀測X射線穿過樣品後的散射強度為基礎，並根據散射角度、極化度和入射X光波長對實驗結果進行分析。X光散射技術可在許多不同的條件下進行分析，例如不同的溫度或壓力。

該方法是由馬克斯·馮·勞厄於1912年發明的，他因而獲得諾貝爾物理學獎。

X光的本質是一種電磁波，而電磁波能夠發生繞射，即繞開障礙物傳播。該方法利用的就是這個原理。之所以採用X光，是因為X光的波長與大多數分子或者晶胞大小相差不多，能夠在分子或晶體的微觀結構中發生繞射，同時也會被分子或者晶胞吸收一部分，而且穿透力適中，從而可以類似於穿透式電子顯微鏡那樣，通過接收經過分子之後的X光，而得到清晰的圖譜。

X光繞射（X-ray diffraction）技術可以用於研究分子的構象或形態。X光繞射技術是基於X光在穿過長程有序物質所發生的彈性散射。「繞射動力學理論」對晶體的散射現象給出了更為複雜的描述[1]。以下列出的是X光繞射的相關技術：