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半導體雷射係以半導體當活性介質,通以順向偏壓激發,半導體能階躍遷過程產生居量反轉分布,經由裁切半導體磊晶所形成的兩面光滑切面,來當共振腔鏡面,使雷 ...
今天要來介紹的是雷射的種類。
雷射的種類大致可以分為:氣體雷射、液體雷射、固體雷射、半導體雷射,這四種。
他們的共通點是
光束高度平行 純色 同調 高強度
氣體雷射
氣體雷射是以氣體當活性介質,它是使用的活性介質種類最多、激勵方式最多樣化、雷射波長分布區域最廣的一種雷射。
氣體雷射所採用的工作物質,可以是原子氣體、分子氣體、電離化的離子氣體以及金屬蒸汽等,因此可相應的稱為原子氣體雷射(如:氦氖雷射)、分子氣體雷射(如:二氧化碳雷射)、離子氣體雷射(如:氬氣雷射)、金屬蒸汽雷射(如:銅蒸汽雷射)。
一般說來,氣體雷射由於其物態固有的特性,所以有些因此而產生的特徵;優點方面是:氣體分子分布均勻、能階較單純,所以氣體雷射的光品質在均勻性和同調性方面都較佳,干涉或精密量測用要求高品質的雷射,通常採用之;另外氣體分子對流、循環較快速,容易作冷卻處理,所以在需要高功率且連續運轉的應用,如雷射切割、銲接等,也大都採用氣體雷射。
缺點上則有:因為氣體密度最低,要得到瞬間的脈衝高峰值功率比較難,所以用在金屬上的雕刻比較少。
氣體雷射大概可分為:
1.氦氖雷射(He-Ne Laser) - 是第一步問世的氣體雷射,介質是氖,但在氦氖混合氣中氦遠比氖多,才能使氖產生雷射作用。,雖然它的運轉效率很低,輸出功率不高,一般只有幾毫瓦或數十毫瓦,但是它的光束品質極佳,又為可見光波段的紅光(波長以0.6328 微米為主),製造和結構上也算是簡單,最能示範雷射光以及光波的特性,用途普及,被廣泛應用在:標定、準直、教學實驗、展示、精密量測、...
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